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X射線熒光分析(XRF)

X射線熒光分析(XRF) 又稱X射線次級(jí)發(fā)射光譜分析，是利用原級(jí)X射線光子激發(fā)待測(cè)物質(zhì)中的原子，使之產(chǎn)生次級(jí)的特征X射線（X光熒光）而進(jìn)行物質(zhì)成分分析和化學(xué)態(tài)的研究方法。通過測(cè)定特征X射線的能量，便可以確定相應(yīng)元素的存在，而特征X射線的強(qiáng)弱則代表該元素的含量。XRF可以檢測(cè)從Na-U的所有元素，其檢測(cè)限度可達(dá)到10ppm級(jí)別。通過使用適當(dāng)?shù)膮⒖紭?biāo)準(zhǔn), XRF可以準(zhǔn)確的量化固態(tài)或液態(tài)樣品的元素組成。

XRF技術(shù)性能

檢測(cè)信號(hào)

X-射線

檢測(cè)元素范圍
Na-U

檢測(cè)限
10 ppm

成像／繪圖
否

橫向分辨率／探頭尺寸
100 µm

XRF分析的應(yīng)用

·   可測(cè)量微米級(jí)金屬薄膜的厚度

·   高精度和準(zhǔn)確性的全晶圓成份像（達(dá)300mm的晶圓）

·   未知固相、液相或粉體中的元素分析

·   合金的鑒定

XRF分析的相關(guān)領(lǐng)域

• 航空航天
• 汽車
• 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
• 國防
• 電子
• 工業(yè)產(chǎn)品
• 照明
• 聚合物
• 半導(dǎo)體

XRF分析的優(yōu)勢(shì)

• 非破壞性
• 全晶圓分析（200 和300 nm）及晶圓片和小試樣
• 全晶圓成份像
• 無試樣制備要求
• 分析區(qū)域可小至30 µm
• 能分析液體和固體
• 探測(cè)深度可達(dá)10 µm

XRF分析的局限性

• 不能檢測(cè)比Na輕的元素
• 對(duì)高精度定量分析，要求參考標(biāo)準(zhǔn)類似于測(cè)試試樣
• 無剖面成像能力